2001年SCIL的技術在飛利浦研究中心（Philips Research）開始醞釀，並在 2015 年，飛利浦研究中心與飛利浦智慧財產及標準部決定推動該技術從「實驗室研發」走向「工業化量產」。SCIL Nanoimprint Solutions 因而誕生。其發展的第一步，是設計並打造出一台專門用於在基板上壓印奈米圖案的全自動機台。而 SCIL 團隊也逐漸成長為一個跨領域的專業團隊。到了 2023 年，SCIL Nanoimprint Solutions 獲得了來自歐洲各國機構資金支持，正式從飛利浦（Philips）獨立（Spin-out）出來，開啟了嶄新的發展之路。

AutoSCIL

AutoSCIL 是一台專為實驗室研發、製程開發、概念驗證（PoC）以及中小型產線（Pilot Run）設計的單機一體化（All-in-one）系統。硬體與空間設計：它採用高整合度的封閉式機殼設計，將晶圓搬運、預對位、光阻旋塗、毛細現象壓印及烘烤等所有核心功能整合在單一機台空間內，佔地面積較小，非常適合部署於空間有限的研發 cleanroom 中。

特點

可承受最高700次壓印, 與傳統技術相比可大幅省下製作成本
獨家設計的光阻液固化快, 並且無須額外施加紫外光。高蝕刻選擇性(selectivity)亦可取代傳統硬式遮罩層(hard mask - SiO2, Si3N4, etc), 替產線省下步驟與成本
直接面對面貼平壓印, 相較滾動式有更高的對位精準度

整合旋塗功能的一體化系統
可兼容100、150 和 200 mm 晶圓
雙面對準

光學 I/O（Optical I/O）
矽光子（Silicon Photonics CPO）
雷射 (CW laser/EML laser)
雷射偏光鏡（Laser Polarizers）
面部識別感測器（Face Recognition Sensors）
超穎透鏡（Metalens）
光導波元件（Waveguides）

FabSCIL

FabSCIL 是專為大規模量產、高產能（High-volume Production）所打造的高階微影設備。
突破單機一體化的限制，改採先進的群集式 / 叢集式設計（Cluster design）。整個系統是由多個獨立製程模組串聯而成，包含複數個獨立的旋塗模組（Spin-coating）、烘烤模組（Curing/Baking）以及中央高效能機械手臂等。這種架構允許客戶根據產線的產能瓶頸進行「自由配置與擴充（Freely configurable）」，以達到最高的設備整體效能（OEE）。

特點

可承受最高700次壓印, 與傳統技術相比可大幅省下製作成本
獨家設計的光阻液固化快, 並且無須額外施加紫外光。高蝕刻選擇性(selectivity)亦可取代傳統硬式遮罩層(hard mask - SiO2, Si3N4, etc), 替產線省下步驟與成本
直接面對面貼平壓印, 相較滾動式有更高的對位精準度

叢集式設計，可自由配置如旋塗、固化等
可兼容150、200以及 300mm晶圓
雙面對準

光學 I/O（Optical I/O）
矽光子（Silicon Photonics CPO）
雷射 (CW laser/EML laser)
雷射偏光鏡（Laser Polarizers）
面部識別感測器（Face Recognition Sensors）
超穎透鏡（Metalens）
光導波元件（Waveguides）