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UNISERS AG

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UNISERS 是一家總部位於瑞士蘇黎世的半導體量測與缺陷控制尖端新創公司(創立於 2019 年,源自蘇黎世聯邦理工學院 ETH Zurich),致力於解決次世代晶片製造中最棘手的奈米級微粒污染難題。該公司的旗艦產品 UNISERS Explorer 是一款革命性的自動化在線(in-line)300mm 晶圓缺陷複檢系統。它最大的突破在於能為極微小的缺陷微粒提供「分子級別」的化學身分鑑定,協助晶圓廠以極快速度追溯污染源頭、提升晶片良率。

UNISERS Explorer

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簡述

1.分子級顆粒特性分析 (Molecular Particle Characterization):
2.革命性的奈米級靈敏度 (Revolutionary Sensitivity):
3.獨家信號增強技術 (Innovative Signal Enhancement)
4.提升良率與節省成本 (Yield & Cost Savings): 

特點

  • 分子級顆粒特性分析 (Molecular Particle Characterization):
    不同於傳統檢測設備只能「看到」有缺陷,Explorer 能夠分析顆粒的分子組成,精準識別出該污染物是屬於金屬、有機物、還是二氧化矽(Silica)等特定物質,讓工程師能直接鎖定是哪一個製程機台或管線在排污。
  •  革命性的奈米級靈敏度 (Revolutionary Sensitivity):
    該系統利用獨家的光學與物理技術,能夠捕捉並識別小至 8 奈米 (nm) 的極微小奈米顆粒。
  •  獨家信號增強技術 (Innovative Signal Enhancement):
    Explorer 結合了以下兩大獨門技術:
    真空電漿鍍膜技術:在晶圓表面加上一層特殊的臨時薄膜,讓微小的雜質在光學顯微鏡下「發光」,大幅提高識別度。
    表面增強拉曼光譜 (SERS):透過錄製單個奈米顆粒的「分子指紋」,實現高速度、高精準度的污染種類鑑定。
  • 提升良率與節省成本 (Yield & Cost Savings):
    藉由即時線上複查(In-line Review),晶圓廠能在製程早期、污染擴大前就抓出機台異常,避免整批晶圓報廢,進而優化生產良率並減少碳排放

機台整合:自動化線上(In-line)系統,配備標準的 EFEM(設備前端模組)與 FOUP 載台,可直接無縫對接晶圓廠的自動化搬運系統(AMHS)。

  • 適用晶圓尺寸:標準 300 mm (12 吋) 晶圓。
  • 製程相容性:支援先進邏輯製程(3nm 及以下)與高階記憶體製程。

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