HPSP(High Pressure Solution Provider)是韓國領先的設備供應商，其主要產品為垂直爐管中的高壓爐管專門為全球半導體行業提供高壓退火技術。 該公司以其世界首創的獨家 H2/D2 高壓退火技術而聞名，該技術在前段先進製程被廣泛使用。除了尖端的退火技術外，該公司還擁有一個全球銷售和服務組織，在美國、歐洲和亞洲地區擁有強大的影響力，為整個半導體製造價值鏈的客戶提供全面的支持。HPSP 致力於提供創新的解決方案，幫助客戶實現提高性能、效率和成本效益的目標。 憑藉其在半導體行業的先進技術和豐富經驗，HPSP 能夠幫助客戶在這個快速發展的市場中保持領先地位。
GENI-SYS
GENI系統 : GENI-Sys 系統是一種立式高壓全自動熱處理爐，能夠處理 200 毫米至 300 毫米的晶圓。 該系統符合當今半導體行業的工藝設備設計、製造、控制和清潔標準。
特點
- 硬體和軟體選項
GENI-Sys 系統有多種硬件和軟件可供選擇，包括：- 乾氣標準，蒸汽環境可選
- 200 毫米或 300 毫米晶圓盒裝載而不是 FOUP
- 晶圓處理（正面、背面）
- 外部鍋爐（濕處理）
