高品質與高效能的研究與生產用 RTP (快速熱處理)、RTA (快速熱退火)、RTCVD (快速熱化學氣相沉積) 和 ALD (原子層沉積) 系統。
RTP & PTA
快速升溫製程
化合物半導體應用附有自動上貨系統的量產工具。微機電，傳感器，發光二極管，雷射二極管，光電子，通訊元件，功率和離散元件，微型電池，奈米科技等。
直接液體注入化學氣相沉積
沉積新元素週期表材料最有效的技術。半導體，微型電池，物體內波及聲表面波濾波器，高溫及耐蝕障壁，生物相容層等。多元金屬氧化物，2D材料 氮化物，金屬與合金等。
沉積材料舉例: LiNbO3, LaNiO3, SrTiO3, BaO, Y2O3, Cr2O3, TiO2, Al2O3, HfO2, Bi2O3, Co3O4, CuCrO2, SiO2, TiN, AlN, Pt, MoS2 …
