三十多年來，CORIAL一直為工業界和學術界提供等離子蝕刻和沉積系統。
薄膜（Thin Film）及乾蝕刻（Dry Etch）設備
提供LED、微機電（MEMS）、化合物半導體（GaAs, GaN, InP,…）、功率半導體之薄膜（Thin Film）及乾蝕刻（Dry Etch）設備：
- 乾蝕刻系統（Dry Etch）
- 化學氣相沈積設備（CVD）
