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先進封裝 Delamination (分層/剝離)檢測全解析

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  • 先進封裝 Delamination (分層/剝離)檢測全解析

2026年01月電子報

在先進封裝(Advanced Packaging, 如 CoWoS, Chiplet)的趨勢下,異質整合帶來了更多的材料界面。隨之而來的熱應力與翹曲(Warpage),使得 Delamination(分層/剝離) 成為良率殺手。本期電子報將深入探討檢測 Delamination 的黃金標準,並回答一個常見的迷思:「為什麼昂貴的 AXI (X-Ray) 卻看不見分層?」

1. The Primary Workhorse: Scanning Acoustic Microscopy (SAM)

目前業界公認檢測 Delamination 的首選技術是 SAM(超音波掃描聲學顯微鏡)。

  • 原理 (Principle)

利用 聲阻抗不匹配 (Acoustic Impedance Mismatch)。

超音波在固體(Silicon/Mold)與氣體(Air Gap)的界面會發生接近 100% 的全反射。因此,即使是亞微米等級的極薄分層,在適當頻率條件下,仍可呈現極高聲學對比。

  • C-SAM vs. T-SAM:該怎麼選?

雖然都是 SAM,但在先進封裝應用中,兩者用途截然不同:

  • C-SAM (C-mode, Pulse-Echo Reflection): 【業界主流】
    • 機制: 發射後接收「反射波」。
    • 優勢: 能利用 Time-of-Flight (ToF) 進行深度定位 (Z-depth)。你可以精確知道分層發生在 Die attach、Underfill 還是 Mold Compound 層。
    • 應用: 絕大多數的 IC 封裝、Flip-chip、BGA 檢測。
  • T-SAM (Through-Transmission): 【特殊應用】
    • 機制: 一邊發射、另一邊接收「穿透波」。
    • 缺點: 只能看到陰影(Shadow),無法判斷缺陷深度,且需要樣品雙面進空。通常僅用於厚板材或初階材料篩檢。

2. The Challenger: Can AXI Detect Delamination?

這是一個常見的問題:「我們產線已經有高階 AXI (Automated X-ray Inspection),還需要 SAM 嗎?」

答案是:需要。AXI 通常無法有效檢測 Delamination。

  • 為什麼 X-Ray 看不到分層?
  • 物理原理差異: X-Ray 成像依賴的是 密度/質量吸收差異 (Density Contrast)。
  • 分層的本質: Delamination 通常是一個「非常薄的空氣隙」(Thin Air Gap)。
  • 結論: 對於垂直穿透的 X-Ray 光束來說,這一點點微米級的空氣隙,並不會造成足夠的質量吸收變化。除非分層已經嚴重到導致翹曲或物理位移(Lifted bond wires/bumps),否則 X-Ray 影像上幾乎是一片空白。

AXI 與 SAM 的黃金分工 (Complementary Roles)

先進封裝檢測不能單靠一種工具,而是需要 Multi-modal Inspection:

FeatureSAM (Acoustic)AXI (X-Ray)
物理機制聲阻抗 (Acoustic Impedance)密度吸收 (Density Absorption)
Delamination⭐ Excellent (極高敏感度)❌ Poor (對薄氣隙無感)
Voiding (空洞)✅ Good (Underfill voids)✅ Good (Solder voids)
Interconnects❌ Poor (難以穿透多層金屬)⭐ Excellent (Open/Short/Bridge)
最佳應用負責界面結合力、分層、微小裂縫負責 TSV 填充、Micro-bumps 橋接、線路斷路

3. Recommended Strategy (Best Practice)

針對先進封裝的良率管理,建議採取以下分階段策略:

  • In-line Screening (量產快篩):
    • 使用 C-SAM 快速掃描托盤(Tray-based),剔除有分層的單元。
    • 搭配 Electrical Test (E-test) 篩選電性失效品。
  • Process Development (製程開發):
    • SAM + AXI (CT): 交叉比對。用 SAM 看結構完整性(是否有爆米花效應),用 X-Ray CT 看內層 TSV 或 Bump 的變形與孔洞。
  • Failure Analysis (失效分析):
    • Step 1: 使用 Non-destructive C-SAM 定位缺陷的 X-Y-Z 座標。
    • Step 2: 使用 FIB (聚焦離子束) 或研磨 (Cross-section),針對該座標進行破壞性切片,透過 SEM 驗證真因。

4. Conclusion (結語)

  • 隨著摩爾定律放緩,封裝結構從 2D 走向 3D,缺陷的檢測難度也呈指數級上升。
  • 面對複雜的異質整合,「一種工具打天下」的時代已經過去。真正的品質保證(QA)在於理解物理極限——用 X-Ray 看結構,用超音波看界面。唯有建立 Multi-modal (多模態) 的檢測思維,才能在不增加過多成本的前提下,精準攔截每一顆潛在的失效晶片。

Key Takeaways

  • SAM is the King of Interfaces: 只要涉及「黏合」、「分層」,超音波是目前唯一可靠的非破壞檢測手段。
  • Don't rely on X-Ray for gaps: X-Ray 是看「金屬」與「結構」的專家,但對「空氣隙」是盲目的。
  • Precision matters: 在先進封裝中,務必選用具備相位反轉(Phase Inversion)分析能力的 C-SAM,以區分是「分層(空氣)」還是「高密度異物」。

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