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晶圓與面板翹曲(Warpage)處理解決方案

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晶圓與面板翹曲(Warpage)處理解決方案

晶圓翹曲(Warpage)是先進半導體製程中的關鍵挑戰之一,特別是在薄晶圓(Thin Wafer)與異質整合(Heterogeneous Integration)應用中更為顯著。翹曲問題可能導致對位不良、轉移失敗,並造成嚴重的良率損失。為因應上述挑戰,Scientech 攜手 AMC 共同開發了一套整合式晶圓與面板翹曲處理解決方案,專為現代先進製造需求量身打造。

我們所解決的關鍵挑戰

  • 因晶圓薄化、熱應力或材料不匹配(CTE mismatch)所導致的翹曲問題
  • 曝光(Photolithography)與鍵合(Bonding)製程中的對位誤差
  • 晶圓搬送、吸附與夾持(Handling & Chucking)過程中產生的機械應力或破片風險

解決方案概述

本翹曲處理系統結合機構創新設計、智慧化自動控制與最佳化製程參數,即使在高翹曲條件下,仍可確保穩定的製程表現與高良率。系統支援 12 吋晶圓及 Panel(面板)規格,可整合至多項關鍵製程模組,滿足先進製程產線的實務需求。

適用製程與應用領域

本解決方案特別適用於以下先進半導體與封裝製程之晶圓廠:

  • 2.5D / 3D 異質整合製程
  • 面板級封裝(Panel-Level Packaging, PLP)
  • 扇出型晶圓級封裝(Fan-Out Wafer-Level Packaging, FOWLP)
  • 先進中介層(Advanced Interposer)技術

核心技術特色

本系統建構於一套經市場驗證的高可靠度貼合(Lamination)平台之上,具備以下特性:

  • 可承受高溫製程條件
  • 相容於各類高濃度化學品環境
  • 支援超低真空(Ultra-Low Vacuum)操作條件

透過此平台設計,可有效降低翹曲程度並穩定基板狀態。該解決方案已通過多家國際一線半導體大廠之驗證與採用。

聯絡我們

若需進一步了解本解決方案或討論客製化系統配置,歡迎與我們的技術團隊聯繫。

關於 Scientech

Scientech 為全球領先的先進半導體製造設備供應商,專注於晶圓/面板濕製程、貼合、解貼合與清洗技術。憑藉對創新與品質的堅持,Scientech 與全球半導體製造商緊密合作,共同推動新世代電子裝置的發展。

相關產品

AMC

AMC成立於1995年,是一家研發生產半導體先進封裝、光學及功能性膜材及黏著材料的廠商,擁有多年保護膜生產、光學膜裁切、膠體配方研發及行銷經驗。公司專注於先進材料供應,以獨特的核心技術為基礎,開發並提供多樣化的黏著絕緣、光電及半導體膠膜材料,在FOPLP扇出型玻璃基板封裝、FOWLP扇出型晶圓級封裝及2.5D/3D先進異質整合封裝材料方面也有具體產品開發實績特別在半導體先進封裝材料市場,其產品涵蓋晶圓級/面板級抗翹曲材料等。

抗翹曲平衡膜

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核心技術為開發特殊功能性高分子材料配方,達到半導體製程中酸,鹼,熱,超真空…等耐受性應用,以精密塗佈設備製成薄膜及黏著性材料,再藉以控制材料的張力或是材料對熱的收縮性,有效控制翹曲值。

特點

  • 高黏著與固定性:有效固定待黏合物體並維持黏合穩定性
  • 控制晶圓翹曲:抑制晶圓翹曲現象使生產流程更順暢
  • 高真空性:無氣體釋出避免污染
  • 低污染性:耐受電鍍溶液處理過程,不造成電鍍液污染。
  • 優異耐溫性:可承受230℃高溫,滿足光刻與鍍層鈍化過程中的RDL製程需求。
  • 耐化學性:耐 RDL製程所需化學品,包含銅蝕刻液、鈦蝕刻液、去光阻劑及其他化學藥劑。
  • 製程穩定性:維持晶圓平整度,不受熱處理過程影響。
  • 易剝離性:製程後可輕鬆剝離。
  • 廣泛適用性:適用於市場上的晶圓級與面板級製程。

因應不同的製程條件,有不同對應的平衡模:

  • RDL 製程 (Carrier: Glass/Silicon)
  • Bump & Reflow 製程 (Carrier: EMC)

適用於chip first 或 chip last:

  • FOPLP扇出型玻璃基板封裝
  • FOWLP扇出型晶圓級封裝
  • 2.5D/3D先進異質整合封裝材料
  • 異質封裝整合
  • AI 高速晶片測試

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