Plasma-Therm

微機電(MEMS)、無線射頻元件(GaAs, GaN,…)、功率半導體、LED、半導體先進封裝所使用之乾蝕刻系統(Dry Etch)、化學氣相沈積設備(CVD)以及半導體光罩所使用之乾蝕刻設備(Mask Etcher)。