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Intlvac Thin Film 為磁性材料、金屬和氧化物提供 PVD（物理氣相沉積）和 IBE（離子束蝕刻）系統。 Intlvac Thin Film內部有設計開發實驗室、工程師並製造用於 PVD 和 IBE 的機械和工藝。Intlvac Thin Film 為世界各地的客戶提供原型和生產運行塗層服務，可以滿足我們客戶的獨特需求。Intlvac Thin Film是材料科學和薄膜技術領域的先進製造領導者。
Intlvac Nanochrome™ Pico 薄膜沉積系統
Intlvac Nanochrome™ Pico 是市場上終極的通用原型製作和研發物理氣相沉積 (PVD) 平臺。它可配置用於多種應用。
NC Pico 擁有16英寸的D型腔室和小型佔地面積，可以適合任何實驗室，並且模塊化設計可以輕鬆進行工藝重新配置。NC Pico 還設計用於整合來自大氣或一對相連的 Pico 室之間載入載出的載入室傳輸功能。對於專用於金屬薄膜或氧化物的系統很有用。
特點
- 佔地面積小
- 模塊化設計
- 載入室傳輸功能
- 適用於金屬薄膜或氧化物
標準規範
應用
- 用於多種應用，例如用於剝離的電子束蒸發、光學干涉濾光片、多層阻擋塗層和透明導電氧化物 (TCO)。
規格
Nanochrome™ I R&D Load-Lock 薄膜沉積系統
Nanochrome™ I R&D Load-Lock 系統能夠通過四袋或六袋電子束槍的電子束蒸發將金屬和電介質等材料蒸發到直接水冷旋轉基板平台上。步進電機還允許自動可變角度沉積。
平台角度調節使系統可用於多層電子束蒸發、磁控濺射、離子束蝕刻等
特點
- 將金屬和電介質等材料直接蒸發到水冷旋轉基板平台上。
- 自動可變角度沉積。
- 平台角度可以調節
標準規範
應用
- 用於多層電子束蒸發、磁控濺射和離子束蝕刻
規格
Nanochrome™ II 薄膜沉積系統
Nanochrome™ II 薄膜沉積系統採用垂直分體“蛤殼”設計，可以完全進入沉積區域。該室為立式圓柱體，標稱內徑為 32 英寸，高 40 英寸，由 304L 不銹鋼製成。該腔室的頂部和底部有多種饋通件，其中許多是備用的。
內外經過高機械拋光，然後進行電拋光，以減少表面積，從而減少抽氣時間和水蒸氣背景。該室具有三個 Pyrex 觀察口，兩個位置有玻璃蓋玻片。沉積材料與面向電子束槍的窗口和觀察口屏蔽，並配有潛望鏡和偏振衰減器組件，以便在沉積過程中進行觀察。
沉積室的頂部有各種饋通端口，我們使用2.0英寸空心軸鐵磁流體型旋轉器，其頂部有一個光學窗口。腔室的側面和底部還有備用端口以供將來使用。
特點
- 垂直分體“蛤殼”設計，可以完全進入沉積區域立
- 式圓柱體由 304L 不銹鋼製成
- 腔室的頂部和底部有多種饋通件
- 減少抽氣時間和水蒸氣背景值
- 方便在沉積過程中進行觀察
標準規範
應用
- 該系統是長投程反應濺射、電子束和熱蒸發生產高質量薄膜的理想平台。
規格
NANOCHROME IV UV VIS - 光學濾光片生產系統
Intlvac Nanochrome™ IV UV VIS 離子輔助沉積系統是 Intlvac 最新的精密光學鍍膜平台。Nanochrome™ IV UV VIS 系統將在光學控制下通過電子束蒸發和離子輔助來製造複雜的光學濾光片，以實現實時重新優化或通過標準沉積控制。
特點
- 卓越的工藝重複性
- 基線均勻度為 2%
- 自動化過程控制
- 實時重新優化
- 5-12" 雙軸旋轉行星
- 溫度控制可達 275°C
標準規範
應用
- 製造複雜的光學濾光片
規格