Neutronix-Quintel

2”to 12”手動、半自動及全自動之光罩對準方式曝光機(Mask Aligner),自動之機型擁有晶面與晶背之疊對誤差檢測功能,應用於大學、研究中心、LED、微機電(MEMS)、功率半導體、化合物半導體(GaAs, GaN, InP, SiC,…)以及半導體先進封裝製程。