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  封裝測試 - Plasma-Therm - 光罩蝕刻機 (Mask Etcher)



光罩蝕刻機 (Mask Etcher)
icon
Plasma-Therm 是乾蝕刻行業的先驅,15年來在高度專業化的光罩領域市場上佔據主導地位。
Plasma-Therm光罩蝕刻機® 系統為光罩製程生產設定乾蝕刻性能和靈活度的標準。 Plasma-Therm的光罩蝕刻機® 解決方案是摩爾定律的關鍵實現因素,縮小技術節點。
各種各樣的薄膜都可以採用蝕刻技術,從入門級的250微米技術到使用ICP高密度等離子體蝕刻系統生產< 32納米薄膜。
通過創新技術實現良好的均勻性和微粒控制,同時保持較高的系統生產的正常執行時間。 Plasma-Therm 最新的第5代光罩蝕刻機® 擅長CD均勻性,線性度遠低於5納米。
特點:
icon 光罩蝕刻機對應技術
Mask Etcher® Gen 2 Gen 3 Gen 4 GenV
Node (nm) 180 130-90 65-45 32-22
icon 專為高度專業化建設的專用平臺光罩市場
icon 多個前端處理選項:
-無隔間裝置/隔間安裝
-自動裝載站(ALS)
-自動前端(AFE)上的SMIF
標準規範:
icon ISO 9001
應用:
icon 典型應用
• 鉻蝕刻
• 矽化鉬蝕刻
• 石英蝕刻
• NGL:納米壓印和遠紫外
規格:
 
 
 
 
 
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