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半導體III-V 族 - 上海微電子 - SSB245/10投影光刻機



SSB245/10投影光刻機
SSB245/10投影光刻機專用於顯示幕TFT電路製造,可使用的基板尺寸為730mm × 920mm,可滿足OLED生產線G4.5代工藝要求及各種使用需求。
特點:
icon 1.基於投影光刻機平臺化和模組化設計,具有良好的穩定性和可維護性
2.卓越的設備性能,高解析度,高套刻精度
3.支援730mm × 920mm玻璃基板,適用於G4.5代線
4.採用UNIX作業系統,具有良好的系統穩定性的同時,具備友好的人機交互介面
5.支援符合SEMI標準的生產線自動化介面及設備之間的工藝資料同步
標準規範:
應用:
icon TFT-LCD & OLED 等Array lithography process
規格:
icon 1.解析度(Resolution) <2.0um
2.曝光光源(Exposure Light Source) i-line mercury lamp
3.基板尺寸(Substrate Dimension) 730mm × 920mm
 
 
 
 
 
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