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  LCD - Advanced Energy - 電源系統:直流電源



icon 擁有 Arc Management System™ 技術的 Ascent® DC 電源
堅固耐用的 Ascent® DC 電源專門管理電弧敏感製程,專為追求高品質、高重複率的薄膜製程提供穩定電源。嚴苛的驗證方案確保最高的可靠性。有效的 Arc Management System™ 能力抑制電弧並防止不必要的薄膜損壞或製程中斷,而 Set Point Compensation™ 技術即使在惡劣的強力電弧條件下也能平衡設定點和濺射率。Ascent 電源易於安裝和操作,配備有多個用戶介面和 Virtual Front Panel(虛擬控制面板)軟體。你可以選擇數台機器透過主/從式架構組成較高電源模組或利用 Arc-Sync™ 技術來對多個相鄰陰極電源匹配。無論你的配置如何,你都可以信賴 Ascent 電源所提供的穩定、高重複率的製程動力。
icon Pinnacle® 系列
業界公認的 Pinnacle® 直流電源平臺具有絕佳的製程一致性和控制功能,從而大大減少了變化,提高了輸出量。這個緊湊、通用的套件提供了業界最低的存儲能量、最快的電弧反應以及最廣的全功率運行阻抗範圍。
icon Pinnacle® Plus+
Advanced Energy (AE) 的 Pinnacle® Plus+ 電源為單一的波形因數,為您的反應製程提供脈衝直流電解決方案所有優點,包括使用簡單、節約成本以及具有絕佳的靈活性。結合標準直流電技術和經過製程證明的脈衝直流電技術,Pinnacle Plus+ 電源與複雜而昂貴的交流電解決方案相比,沉積率更高,重複性能更好,與複雜且昂貴的AC電源解決方案相比,薄膜品質更為優異。
icon Pinnacle® 3000
Advanced Energy 的 Pinnacle® 3000 直流電源提供最高的效率和功率因數,從而帶來業界最低的運行和安裝成本。 Pinnacle 製程一致性和控制帶來的額外好處是使製程和偏壓應用的變化明顯減少、輸出量提高。
icon Pinnacle® Diamond™
○在製程和偏壓應用中,Pinnacle® Diamond™ 直流電源都能提供最高的效率和功率因數,從而帶來業界最低的運行和安裝成本。 Pinnacle 絕佳的製程一致性和控制帶來的額外益處是通過一個極其緊湊的部件大大減少了變化、提高了輸出量。
icon MDX 系列500 W
MDX 500 在真空環境中經久耐用,能夠在磁控環境中對不同類型的電弧進行多級抑制和滅弧。在基本磁控濺射、射頻偏壓直流濺射以及直流偏壓射頻濺射中表現一流。其小巧的尺寸使其非常適合於實驗室系統和小規模的生產環境。
icon MDX 系列1 kW 和1.5 kW
精密的調節功能、優良的滅弧和較低的存儲輸出能量使 MDX 系列直流電源成為業界的領先產品。由於在真空環境下的經久耐用,這些適應於惡劣環境的電源經常被作為直流磁控管濺射傳動而受到廣泛應用。該產品系列還提供精密的調節性能,如射頻濺射中的偏壓電源和蝕刻系統。緊密的設計使之成為實驗室系統首選解決方案。
icon E'Wave® 雙極脈衝直流電系列
Advanced Energy 的 E'Wave® 雙極脈衝直流電源改善了表面均勻性,減少了雙鑲嵌製程流程 (dual-damascene process flow, DDPF) 應用的鍍銅階段之附加消耗,包括在生產環境和銅製程開發中的晶圓電鍍。E'Wave 電源提供多達三個通道,每個都有一個獨立驅動的雙極電源,能夠生成、儲存和運行多達15個由電流控制或由電壓控制的波形。
 
 
 
 
 
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