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  自有產品 - 濕製程機台 Wet Bench
 



2002年,辛耘企業投入批次式濕製程設備研發製造,已經獲得國內外客戶採用與肯定。目前辛耘擁有5,000㎡ 生產製造廠房,還擁有Class 10 等級無塵室服務客戶製程驗證。 產品包含手動/半自動/全自動的批次濕製程設備,提供客戶2”~12製程應用需求。 特有的 cassette type / boat type / cassette-less type 技術提供半導體晶圓、藍寶石、玻璃、太陽能晶圓、薄化晶圓等等..的應用。此外,專利產品Advantech Dry提供客戶各種關鍵乾燥的製程應用。

應用:
icon Wet Bench for Front-end Semiconductor
RCA Clean / Etching / PR Strip / Reclaim / Mask Cleaner
icon Wet Bench for Back-end Semiconductor
Clean/ Etching/ Dry Film PR Strip/ Developer/ Mask Cleaner
icon Wet Bench for MEMS
Clean / PR Strip / Si Etching / Oxide Release
icon Wet Bench for GaAs
Clean / PR Strip / Metal Lift-Off / Plating / Etching
icon Wet Bench for LED
High Temperature Phosphoric Acid Etching/ KOH Etching/ ITO, BOE, SPM, HCL Etching/ PR Strip/ Developer
icon Wet Bench for Solar Cell
Texture
icon Advantech Dryer
icon Wet Bench for Parts/Tube Clean
icon Chemical Supply System
icon OEM for Tools
 
 
 
 
 
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