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  自有產品 - 濕製程機台 Wet Bench
 



2002年,辛耘企業投入批次式濕製程設備研發製造,已經獲得國內外客戶採用與肯定。目前辛耘擁有 5,000㎡ 生產製造廠房,還擁有 Class 10 等級無塵室服務客戶製程驗證。產品包含手動 / 半自動 / 全自動的批次濕製程設備,提供客戶2”~12”製程應用需求。特有的 cassette type / boat type / cassette-less type 技術提供半導體晶圓、藍寶石、玻璃、太陽能晶圓、薄化晶圓等等..的應用。此外,專利產品Advantech Dry 提供客戶各種關鍵乾燥的製程應用。

應用:
icon Wet Bench for Front-end Semiconductor
RCA Clean / Etching / PR Strip / Reclaim / Mask Cleaner
icon Wet Bench for Back-end Semiconductor
Clean / Etching / PR Strip / Plating / Developer / Mask Cleaner / Electro-less Plating
icon Wet Bench for MEMS
Clean / PR Strip / Si Etching / Oxide Release / Electro-less Plating
icon Wet Bench for GaAs
Clean / PR Strip / Metal Lift-Off / Electro-less Plating / Etching
icon Wet Bench for LED
High Temperature Phosphoric Acid Etching / KOH Etching / ITO / BOE / SPM / HCl Etching / PR Strip / Developer
icon Wet Bench for Solar Cell
Texture
icon Advantech Dryer
icon Wet Bench for Parts / Tube Clean
icon Chemical Supply System
icon OEM for Tools
 
 
 
 
 
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