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  半導體III-V 族 - Piotech - PF-300T



12英寸PECVD設備 PF-300T
設備介紹:
1. 100%自主智慧財產權
2. 生產成本(CoO)及性能指標達到世界領先水準
3. 用於90-65納米積體電路的生產
4. 具有45-32納米技術的延伸性
特點:
icon 1. 可選8英寸相容組件
2. 獨創的平臺架構設計,使設備產能達世界領先水準
標準規範:
icon 1. 通過三體系認證: ISO9001、ISO14001、OHSAS18001
2. 產品符合SEMI S2 及F47規範
應用:
icon 1. 具備高品質的SiO2, SiN, SiON, and TEOS oxide films製程
2. 具備TSV所需的低溫(<200℃)的TEOS SiO2製程
3. Low-k capable
規格:
icon 1. 全自動PEVCD設備
2. 單腔PEVCD設備
 
 
 
 
 
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