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  半導體III-V 族 - IMT Co.,Ltd - C3100 Co2 Jet cleaning 晶圓框架 / 法蘭清潔


C3100 Co2 Jet cleaning 晶圓框架 / 法蘭清潔
C3100 Co2 Jet cleaning提供了晶圓框架乾式清洗解決方案。
12吋晶圓框架僅需90秒製程。
特點:
icon 1. Co2 Jet cleaning 雙槽式清潔槽。
2. 廠務建置成本低廉，無須進行廢液處理。
標準規範:
icon CE
應用:
icon TSV / Glass carrier / Wafer
規格:
icon 8" / 12" 晶圓可置放於Cassette (晶舟)

 
 
 
 
 
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