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半導體III-V 族 - Ushio - 曝光製程用超高壓UV燈



曝光製程用超高壓UV燈
100W∼35KW之超高壓UV燈,應用於ASML, Ultratech,…等曝光機。
特點:
icon 在紫外線波長中,USHIO的超高壓UV燈:436nm、405nm、365nm波長,是長效型且具有穩定放射照度的高亮度光源。
標準規範:
icon ISO 14001: 2004
應用:
icon 100W∼35KW之超高壓UV燈,應用於ASML, Ultratech,…等曝光機。
icon 半導體產業晶圓傳送設備
規格:
icon 請聯絡辛耘企業股份有限公司

 
 
 
 
 
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