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  半導體III-V 族 - KLA - Zeta-20 / Zeta-300 / Zeta-388 光學式表面/膜厚量測儀



產品聯絡人:曾偉恩
電話分機:+886-3-516-5177 Ext: 8270
手  機:+886-987-238-657
郵件信箱:wayne.tseng@scientech.com.tw
產品聯絡人:謝雨叡
電話分機:+886-3-516-5177 Ext: 8284
手  機:+886-987-238-591
郵件信箱:ray.hsieh@scientech.com.tw
Zeta-20 / Zeta-300 / Zeta-388 光學式表面/膜厚量測儀



Zeta光學輪廓儀是非接觸式3D表面形貌測量系統。該系統採用ZDot™專利技術和Multi-Mode (多模式)光學系統,可以對各種不同的樣品進行測量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理,以及奈米至毫米級別的台階高度。
特點:
icon 採用ZDot和Multi-Mode(多模式)光學器件的簡單易用的光學輪廓儀,具有廣泛的應用,可用於樣品複檢或缺陷檢測的高質量顯微鏡。
Zdot: 同時採集高分辨率3D數據和True Color(真彩) 無限遠焦點圖像
ZXI: 白光干涉測量技術,適用於z向分辨率高的廣域測量
ZIC: 干涉對比度,適用於奈米級別粗糙度的表面並提供其3D定量數據
ZSI: 干涉測量技術提供z向高分辨率圖像
ZFT: 使用集成寬帶反射計測量膜厚度和反射率
AOI: 自動光學檢測,並對樣品上的缺陷進行量化
生產能力: 通過測序和圖案識別實現全自動測量
標準規範:
icon
應用:
icon 台階高度:納米到毫米級別的3D台階高度
粗糙度:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度
外形:3D翹曲和形狀
應力:2D薄膜應力
薄膜厚度:30nm到100μm透明薄膜厚度
缺陷檢測:能檢測大於1μm的缺陷
缺陷複檢:採用KLARF文件作為導航以測量缺陷的3D表面形貌缺陷位置
規格:
icon 1. True Color CCD Camera
2. Zeta Optics Module with Z-Dot Technology
 ・Enable AutoFocus
 ・High efficiency illiumination for transparent substrates and films
 ・Optional X5 interferometer for high Z resolution wide area profiling
 ・Optional Nomarski imaging for very low roughness profiling
 ・Dual LED source to maximize signal from low reflectivity surfaces
 ・Trough transmissive illumination and dark field imaging options
3. Z-drive
 ・Precision mechanism for 13nm vertical resolution
 ・Optional 2nm resolution piezo Z drive
4. Zeta Control Box
 ・Enables fast high resolution data acquisition
 ・Optional Spectrometer for Film Thickness measurements
5. XY Stage
 ・Open architechture for convenient sample positioning
 ・Optional motorized XY stages

 
 
 
 
 
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